Micro Resist 电子束及深紫外光刻胶
美国 Micro Resist
ma-N 2400系列，mr-EBL 6000
电子束及深紫外光刻胶
ma-N 2400系列，mr-EBL 6000
电子束及深紫外光刻胶
电子束及深紫外光刻胶ma-N 2400 mr-EBL 6000.pdf
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型号 |
曝光 |
特点 |
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ma-N 2400系列 |
电子束和深紫外曝光 |
电子束和深紫外灵敏；非常适合作为刻蚀掩模，极好的抗干刻、湿刻性能；胶图案良好的热稳定性；优异的图案分辨率-50 nm以下；碱性水溶液下显影； |
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mr-EBL 6000 |
电子束曝光 |
电子束和深紫外灵敏；非常适合作为刻蚀掩模，极好的抗干刻、湿刻性能；光胶图案良好的热稳定性；优异的图案分辨率-80 nm以下；碱性水溶液下显； |
