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光刻胶
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Micro Resist 紫外正性光刻胶

美国 Micro Resist
紫外正性光刻胶 ma-P 1200系列

紫外正性光刻胶
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紫外正性光刻胶mr-P 1200LIL.pdf

紫外正性光刻胶 ma-P 1200G.pdf

 

 

 

型号

厚度

应用

ma-P 1200系列

0.5～50μm胶厚

非常适合作为刻蚀掩模，极好的抗干刻、湿刻性能；
优异的电镀性能（酸和碱性镀液中极高的稳定性）

光刻胶图案良好的热稳定性；碱性水溶液下显影；
宽带、g或i线曝光

 

  品 牌：

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